科研用小型真空碳管爐是我公司根據(jù)科研單位實(shí)際實(shí)驗(yàn)需求研發(fā)設(shè)計(jì)的，根據(jù)需求不同，可以是桌面式，側(cè)掛式，井式的。立式的，臥式的不同的結(jié)構(gòu)形式。溫度可達(dá)2300，真空度5帕~0.0067帕不等，可以非標(biāo)定做本系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于無(wú)機(jī)材料（如陶瓷密封件、碳化硅、氧化鋯、氧化鋅、二氧化鋁等）、及金屬材料（如硬質(zhì)合金）在真空或保護(hù)氣氛中燒結(jié)制備，也可用于稀土元素及其氧化物的提純處理及藍(lán)寶石退火處理。同時(shí)也適用于大專(zhuān)院校、科研單位進(jìn)行中試批量生產(chǎn)使用。

采用油擴(kuò)散泵、機(jī)械泵、機(jī)械泵上設(shè)有電磁閥，高、低真空閥為氣動(dòng)擋板閥，配合數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)和PLC實(shí)現(xiàn)高、低真空自動(dòng)切換。電控系統(tǒng)主回路為低電壓大電流輸入，控制柜體西門(mén)子標(biāo)準(zhǔn)制作。進(jìn)口數(shù)顯程序控制儀完成升溫和降溫過(guò)程自動(dòng)控制，控制本面板上設(shè)有圖形模擬屏，人性化設(shè)計(jì)，操作直觀簡(jiǎn)單，控制回路具有斷水、超溫、過(guò)流等聲光報(bào)警和自動(dòng)保護(hù)功能。

科研用小型真空碳管爐設(shè)備參數(shù)：

1.設(shè)備總功率：10-25Kw；

2.電源電壓：?jiǎn)蜗?20v或者三相380V,50Hz

3.真空度：5帕 5×10E-3Pa   6.7*10-4pa

4.工作區(qū)尺寸：￠40*40  ￠60*60 ￠80*80  ￠120*120  ￠200*200 ￠250*300

5.設(shè)計(jì)溫度：2000℃ 2300℃

6.使用溫度：室溫-1950℃  室溫-2200℃

7.控溫精度：±1℃

8.真空泵組：飛越機(jī)械泵 +擴(kuò)散泵+管路閥門(mén)

9：真空腔尺寸：可非標(biāo)定制

10：控制方式：PLC+觸摸屏